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Rollende Nanolithographie: Industrielles R2R-Verfahren zur Herstellung von Strukturen im Mikrometer

Die rollende Nanolithografie kann die Auflösung der R2R-Lithografie sogar unter 1 um bringen. Diese Technologie von Meta Inc (Meta Materials Inc) umfasst eine Rolle, um die eine Maske gewickelt wird und in der sich ein UV-Licht befindet. Die Maske selbst wird mit Hilfe der Elektronenstrahllithographie hergestellt, wodurch sie sehr feine Merkmale erhält. Daher kann die Maske, wie die Nanoimprint-Technologie, Merkmale im Nanometermaßstab unterstützen. Allerdings kann die UV-Belichtung selbst die Größe der Merkmale auf 500 nm oder 1 um begrenzen.


Die derzeitige Bahngröße beträgt 300 mm, obwohl Meta eine Technologie entwickelt, um diese auf 1200 mm Bahnbreite zu skalieren. Hier kann ein Step-and-Repeat-Verfahren eingesetzt werden, um größere Rollmasken zu erzeugen (Achtung: Es können einige 100um breite Diskontinuitäten entstehen, die nicht ganz nahtlos sind, aber es gibt Abhilfemaßnahmen dafür).


Um eine einlagige Feinstleiter-Metallisierung zu erreichen, wird zunächst ein Fotolack aufgetragen und dann mit der UV-Rollmaske strukturiert. Anschließend wird eine dünne Metallschicht R2R-bedampft (z. B. AI oder Ag), bevor das endgültige Muster in einem R2R-Lift-off-Verfahren erzeugt wird. Es können sehr feine Strukturen mit einem hervorragenden Aspektverhältnis (300nm/100nm) erzielt werden.


Es handelt sich um ein industrielles R2R- oder R2S-Breitbandverfahren, mit dem wenige Mikrometer oder sogar Submikrometer-Merkmale auf 1,2 m breite Bahnen mit einer Länge von 6 km und einer Druckgeschwindigkeit von 2-10 m/min gedruckt werden können.


Die eingebetteten Folien zeigen Produktbeispiele. Auf Folie 2 sehen Sie die Beispiele für die erreichten feinen Strukturen, womit die Technologie in den gleichen Größenbereich wie Silbernanodrähte fällt. Auf Folie 3 sehen Sie die Demonstration von Al- und Ag-Metallgeweben mit L/S von 500 nm/30 um, die 3,5-5 Ohm/qm bei 96 % Transparenz erreichen. Das Bechmarking-Diagramm zeigt, dass diese Nanoweb-Technologie alle anderen Optionen in Bezug auf ihren geringen Schichtwiderstand und ihre hohe Transparenz übertreffen kann. [This is automatically translated from English]




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