La technologie de métallisation standard pour les cellules solaires en Si est la sérigraphie. Aujourd'hui, elle permet d'imprimer des largeurs de ligne de 35 um et devrait évoluer en production vers des largeurs de ligne de 20 um. La productivité pour une plaquette de 182x182 mm2 est aujourd'hui d'environ 7000 plaquettes par heure, ce qui constitue la référence du secteur pour toute technologie alternative.
Dans le passé, l'impression à jet d'encre a tenté d'offrir une alternative, mais elle ne pouvait traiter que des encres à nanoparticules (coûteuses) à faible viscosité et à faible rapport d'aspect. Il a été proposé d'utiliser le jet d'encre comme technologie d'impression de la couche d'ensemencement, mais le jet d'encre - en tant qu'outil de métallisation des PV - n'a pas encore gagné en popularité, malgré plus d'une décennie de développement.
Le Fraunhofer ISE a mis au point une nouvelle impression numérique sans contact à têtes multiples basée sur une distribution à haute résolution. Cette technologie, qui a donné naissance à HighLine Technology GmbH, permet d'imprimer numériquement des lignes de métallisation à haut rapport d'aspect (:1) et à largeur de ligne ultra étroite (17-19 um) en utilisant des pâtes d'argent solaire à haute viscosité. Cette technique peut améliorer la capacité de largeur de ligne de la sérigraphie tout en étant en ligne et sans contact, ce qui peut conduire à un taux de rupture/rejet plus faible, en particulier pour les plaquettes ultra-minces.
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