Proceso industrial R2R para crear características de tamaño micrométrico y submicrométrico
La nanolitografía con rodillo puede llevar la resolución de líneas de la lighografía R2R incluso por debajo de 1um. Esta tecnología, de Meta Inc (Meta Materials Inc), incluye un rodillo alrededor del cual se envuelve una máscara y dentro de la cual se sitúa una luz UV. La propia máscara envolvente se fabrica mediante litografía por haz de electrones, lo que le confiere unas características muy finas. Por tanto, la máscara puede admitir, al igual que la tecnología de nanoimpresión, características a escala nanométrica. Sin embargo, la propia exposición UV puede limitar el tamaño de las características a 500 nm o 1um.
El tamaño actual de la banda es de 300 mm, aunque Meta está desarrollando una tecnología para ampliarla a anchos de banda de 1.200 mm. En este caso, se puede utilizar un proceso de paso y repetición para crear máscaras de laminación de mayor tamaño (nota: puede haber algunas discontinuidades de 100um de ancho y, por tanto, no ser totalmente sin fisuras, aunque hay soluciones para ello).
Para conseguir una línea metálica ultrafina de una sola capa, primero se deposita un fotorresistente y luego se crea un patrón utilizando la máscara UV rodante. A continuación, se evapora una fina capa de metal R2R (AI o Ag, por ejemplo) antes de crear el patrón final en un proceso R2R lift-off. Se pueden conseguir características ultrafinas con una excelente relación de aspecto (300 nm/100 nm).
Se trata de un proceso industrial R2R o R2S de banda ancha que puede imprimir características de pocas micras o incluso submicrónicas en bandas de 1,2 m de ancho con longitudes de 6 km y a velocidades de impresión de entre 2 y 10 m/min.
Las diapositivas incrustadas muestran ejemplos de productos. En la diapositiva 2, se pueden ver ejemplos de tamaños de rasgos finos conseguidos, lo que sitúa la tecnología en el mismo rango de tamaño de rasgo que los nanocables de plata. En la diapositiva 3, se puede ver la demostración de mallas metálicas de Al y Ag con L/S de 500 nm/30um que consiguen 3,5-5 ohm/sqr con una transparencia del 96%. El gráfico de bechmarking muestra que esta tecnología de nanohilos puede superar a todas las demás opciones en cuanto a su baja resistencia de lámina y su alta transparencia. [This is automatically translated from English]
