caractéristiques de l'ordre du micron et du submicron.
La nanolithographie par roulement permet d'obtenir une résolution linéaire inférieure à 1 um par rapport à laighographie R2R. Cette technologie, mise au point par Meta Inc (Meta Materials Inc), comprend un rouleau autour duquel un masque est enroulé et à l'intérieur duquel se trouve une lumière UV. Le masque enveloppé est lui-même fabriqué par lithographie par faisceau d'électrons, ce qui lui confère des caractéristiques très fines. Par conséquent, le masque peut supporter, comme la technologie de la nanoimpression, des caractéristiques à l'échelle nanométrique. Toutefois, l'exposition aux UV elle-même peut limiter la taille des caractéristiques à 500 nm ou 1 um.
La taille actuelle de la bande est de 300 mm, bien que Meta développe une technologie permettant de passer à une largeur de bande de 1200 mm. Dans ce cas, un processus par étapes et répétitions peut être utilisé pour créer des masques roulants de plus grande taille (remarque : il peut y avoir des discontinuités de 100 um de large et donc ne pas être totalement sans couture, mais il existe des solutions de contournement pour cela).
Pour réaliser une métallisation à ligne ultrafine en une seule couche, une résine photosensible est d'abord déposée, puis modelée à l'aide du masque UV roulant. Ensuite, une fine couche de métal est évaporée par R2R (AI ou Ag, par exemple) avant de créer le motif final dans un processus de lift-off R2R. Des caractéristiques ultrafines avec un excellent rapport d'aspect (300nm/100nm) peuvent être obtenues.
Il s'agit d'un procédé R2R ou R2S industriel à large bande qui permet d'imprimer des caractéristiques de quelques microns ou même submicroniques sur des bandes de 1,2 m de large, à des longueurs de 6 km et à des vitesses d'impression de 2 à 10 m/min.
Les diapositives ci-jointes montrent des exemples de produits. Sur la diapositive 2, vous pouvez voir les exemples de tailles de traits fins obtenus, ce qui place la technologie dans la même gamme de tailles de traits que les nanofils d'argent. Dans la diapositive 3, vous pouvez voir la démonstration d'une maille métallique en Al et Ag avec un L/S de 500nm/30um atteignant 3,5-5 ohm/sqr à 96% de transparence. Le graphique de bechmarking montre que cette technologie de nanofils peut surpasser toutes les autres options en termes de faible résistance de feuille et de transparence élevée.
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