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¿metalización EMI aditiva de área selectiva a nivel de paquete?

El sputtering sigue siendo la tecnología preferida para crear blindajes conformados contra la EMI a nivel de paquete, lo que constituye una tendencia importante en la industria electrónica. Desde hace algunos años, se ha intentado sustituir el sputtering por la pulverización. Las ventajas son el bajo coste de inversión y el funcionamiento sin vacío, aunque estas ventajas pueden no ser suficientes para superar el impulso de la tecnología actual.


Sin embargo, ahora existen dos enfoques basados en la impresión digital de tintas conductoras para crear un blindaje EMI conformado a nivel de paquete. La naturaleza digital del recubrimiento permite una metalización selectiva sin máscara, lo que supone una importante ventaja en comparación con el sputtering cuando se trata de complejos envases heterogéneos de varios chips o de envases SiP en los que sólo hay que recubrir una parte del envase.


Heraeus ha desarrollado un enfoque. Combina la impresión por chorro de tinta de varios cabezales con sus tintas sin partículas. Heraeus ofrece una solución llave en mano a nivel de fabricación, lo que facilita a los clientes la adopción de su solución. Además, la naturaleza delgada y suave del revestimiento sugiere que es eficaz incluso para las frecuencias mmWave y más allá, lo que significa que una sola solución será suficiente para cubrir la gama sub-5G, la gama mmWave y muchas gamas de frecuencia futuras.


Heraeus- Inkjet_ selective-area additive package-level EMI metallization?
Heraeus- Inkjet_ selective-area additive package-level EMI metallization?


Otro enfoque menos maduro es el desarrollado por Ntrium en Corea. En este caso, utilizan la impresión por aerosol. Los resultados que se muestran a continuación se dieron a conocer en TechBlick en mayo de 2021. Muestra una metalización selectiva por áreas en un CI de 8x12mm2. El cabezal de aerosol se mueve a 10 mm/s. Los recubrimientos de nanopartículas de Ag tienen un grosor de entre 1,1 y 1,3um, que es más fino que el de la pulverización y está en el mismo rango que el de la inyección de tinta. El aerosol ofrece un chorro concentrado que permite una alta resolución, pero al mismo tiempo puede limitar el área de cobertura por pasada.


No conocemos los últimos avances, pero el plan en mayo de 2021 era conseguir lo siguiente hasta finales de 2022/principios de 2023

UPH 1000 /sistema --> 4000/sistema

Velocidad del cabezal: 5mm/s --> 15mm/s

Espesor: 1um/pass -->3um/pass

Anchura: 500um/pass -->1mm/pass [This is automatically translated from English]


Ntrium_aerosol_ selective-area additive package-level EMI metallization?
Ntrium_aerosol_ selective-area additive package-level EMI metallization?


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