La tecnología de la electrónica impresa está evolucionando. Una de las direcciones de desarrollo es la impresión de líneas ultrafinas, lo que permite que la tecnología se acerque cada vez más al ámbito de la fotolitografía. Este ejemplo, desarrollado por VTT, demuestra un proceso de impresión submicrónico.
El proceso consiste en la impresión offset inversa. En este caso, el rodillo de PDMS se recubre primero con la tinta. La tinta se seque en el rodillo, en parte por absorción en el PDMS. Este estado semiseco permite superar los problemas de humectación cuando las tintas están en estado líquido. El rodillo de PDMS entintado se pone en contacto con un cliché, o placa de relieve, eliminando partes de las tintas. A continuación, las tintas semisecas estampadas en el rodillo de PDMS se transfieren al sustrato final.
En este ejemplo, VTT logra la impresión directa de tintas de nanopartículas de plata de 1µm. La impresora RO de sobremesa se utilizó para imprimir una malla metálica sobre PET con anchos de línea de 1µm. La resisitividad de la lámina reportada no es muy baja (100Ohm/sqr), probablemente porque las líneas son muy finas.
En general, cabe destacar que la ROP puede permitir resoluciones mínimas de entre 0,5 y 5µm, líneas de espesor impresas de entre 20 y 1000nm, precisión de superposición <2um y velocidades de impresión de 50mm/s (3m/min). [This is automatically translated from English]
