Les progrès de la sérigraphie vers l'impression de lignes fines ont été incroyables, passant de 100 µm avant 2010 à 70 µm en 2015, puis à 40 µm en 2018, et poussant maintenant - en développement - vers 20 µm et moins. En parallèle, l'épaisseur humide de la ligne imprimée est passée d'environ 12 um en 2018 à seulement 4 um aujourd'hui.
Dans les diapositives ci-dessous, Jeffrey Campbell de Sefar Inc. a partagé des exemples d'écrans pour l'impression de lignes fines et présente des caractéristiques imprimées fines (<20um).
Les progrès réalisés dans tous les éléments de la technologie des écrans ont été cruciaux pour faire avancer ce développement. Dans sa présentation au TechBlick, Jeff a également expliqué les étapes technologiques clés nécessaires pour permettre et soutenir cette tendance. Ces étapes comprennent
1- maille fine : c'est une nécessité car une maille plus fine permet des ouvertures plus grandes et des lignes plus fines, même avec un nombre de mailles élevé. Ceci est illustré ci-dessous. Dans cette diapositive, vous pouvez voir des exemples de caractéristiques imprimées utilisant des mailles en acier inoxydable 11um d'Asada Mesh. Réduire le diamètre de la maille peut sembler facile, mais raser chaque micron nécessite trois ans de développement intense !
2- Calandrage de la maille : l'aplatissement de la maille à l'aide de rouleaux améliore la résistance à la traction de la maille et assure la stabilité dimensionnelle. Cela permet un meilleur contrôle et une meilleure cohérence d'une impression à l'autre, même pour l'impression de détails fins.
3- aplanissement de l'émulsion : Réduit la rugosité de la surface de l'écran et crée un couloir plus régulier pour le passage de la pâte. En outre, il améliore la définition des bords de l'impression finale.
Dans les diapositives ci-dessous, vous pouvez voir de nombreux exemples de différents écrans (maille + émulsion + traitement supplémentaire comme le calandrage) adaptés à l'impression de traits fins (20um ou moins)
Pour en savoir plus, visitez www.TechBlick.com
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