Introducción de la tecnología de impresión R2R para electrodos de resolución

submicrométrica y dispositivos aplicados

Ponente: Abe Masayuki | Empresa: Asahi Kasei | Fecha: 9-10 de marzo de 2022 | Presentación completa

Para obtener un alto rendimiento y un uso práctico de los dispositivos electrónicos impresos, es importante contar con una tecnología de impresión que pueda formar industrialmente electrodos con una resolución submicrónica. Hemos desarrollado nuestra propia tecnología de litografía por haz de electrones como tecnología de creación de patrones para placas cilíndricas con el fin de lograr tanto una productividad masiva como una alta resolución. También hemos desarrollado nuestra propia nanotinta metálica con un diámetro medio de aglomerado inferior a varias decenas de nanómetros, así como nuestro propio proceso y equipo de impresión R2R. Presentaré estas tecnologías y la etiqueta RFID transparente de tipo híbrido producida aplicando estas tecnologías.

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